隨著全球人工智慧技術爆發性成長，AI晶片需求急遽攀升，直接帶動半導體核心供應鏈的擴產熱潮。極紫外光（EUV）微影設備獨家供應商艾司摩爾（ASML）作為全球晶片製造關鍵樞紐，其業績表現是科技產業重要風向球，台積電、三星與英特爾等巨頭對其先進製程設備的採購動態，更牽動著全球半導體產能的布局。
艾司摩爾於2026年7月15日公布第二季財報，並宣佈上調全年營收預估至430億至450億歐元，調幅約16%。此調整主因是台積電與三星正加速擴增AI晶片產能，英特爾也將首度採用其新一代High-NA EUV設備進行量產。各大廠的積極採購不僅使艾司摩爾接單超出預期，也印證了半導體資本支出週期的強勁成長。
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這個事件的歷史脈絡ASML 於半導體晶片製造主導地位漸趨減弱
ASML 是全球唯一能量產極紫外光（EUV）微影設備的業者，並主導浸潤式深紫外光（DUV）市場；這些機台是台積電等晶圓廠製造先進 AI 晶片的關鍵。美國主導的出口管制限制中國取得最先進設備，卻也加速北京推動半導體設備國產化，長期可能改寫全球供應鏈與 ASML 的議價能力。
7月28日，路透報導中國國企上海愛聲納電子技術集團正推動浸潤式 DUV 機台量產，目標2026年生產5台、2027年20台；相較之下，ASML 2025年出貨131台。消息兩日內重挫 ASML 股價約10%，市值蒸發逾600億歐元；ASML 估計2026年中國營收約90億歐元、占比20%，短期衝擊有限但長期風險升高。
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