Intel 製程良率提升與前台積電研發高層跳槽洩密疑雲

Intel 長期力拚縮小與台積電在先進製程的差距，製程良率攸關晶片成本、量產能力與晶圓代工競爭力。前台積電研發高層羅唯仁轉投 Intel 後，其角色被外界與技術突破連結，也使半導體人才流動、營業祕密保護及台灣國家安全風險再受關注。

Intel 於 2026 年首季繳出亮眼財報，先進製程良率亦大幅提升，但現有資訊未列出營收、獲利金額及確切良率。台積電已對羅唯仁提告，指控其涉嫌洩漏 2 奈米關鍵資料；目前尚無司法定讞，羅唯仁是否直接促成 Intel 良率改善，仍待具體證據釐清。