應用材料公司(Applied Materials)此次鎖定生成式 AI 帶動的高效能運算需求。AI 晶片須整合先進 3D 架構與高頻寬記憶體(HBM),堆疊層數增加後,製程平坦度、缺陷控制與良率更難兼顧,因此設備升級牽動 DRAM 與先進封裝擴產效率。
最新產品組合涵蓋 DRAM Epi 磊晶、化學機械平坦化(CMP),並導入電子束量測及缺陷檢測系統,協助客戶改善 3D 堆疊的良率與可靠性。應材未在所提供資訊中揭露正式發表日期、設備售價、訂單金額或出貨時程,現階段重點是卡位 AI 晶片、DRAM 與先進封裝投資商機。
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